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本文介绍了一种分布在划片槽内的PCM结构的测试方法。使用美国Keithley公司的S425参数测试系统，以3μmSi栅CMOS产品为研究对象，建立了一套全新的PCM测试方法并开发成功了完整的测试程序。阐述了在半导体MOS生产线监控中的应用前景及由此带来的经济效益。
3μmSi栅CMOS产品PCM测试方法分析及测试程序开发
【摘 要】
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本文介绍了一种分布在划片槽内的PCM结构的测试方法。使用美国Keithley公司的S425参数测试系统，以3μmSi栅CMOS产品为研究对象，建立了一套全新的PCM测试方法并开发成功了完整的测试程序。阐述了在半导体MOS生产线监控中的应用前景及由此带来的经济效益。
【机 构】
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中国华晶电子集团公司MOS一厂PCM组
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1996年01期
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