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期刊论文
NTD硅电子辐照缺陷的等时退火特性
NTD硅电子辐照缺陷的等时退火特性
来源 :郑州大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaoxiaofan0303
【摘 要】
:
本文研究了NTD硅,经电子辐照缺陷的等时退火特必最五个缺陷能级,结果表明其中E3和E4级有比它三个能级的热稳定性更好。
【作 者】
:
戴培英
李燕山
【机 构】
:
郑州大学物理工程学院,中山州大学工程系
【出 处】
:
郑州大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
1997年3期
【关键词】
:
NTD硅
电子辐照
缺陷能级
等时退火
硅
buckminsterfullerene
diamond film
Si
intermediate
【基金项目】
:
河南省自然科学基金
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本文研究了NTD硅,经电子辐照缺陷的等时退火特必最五个缺陷能级,结果表明其中E3和E4级有比它三个能级的热稳定性更好。
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