GaAs光电阴极片原子级表面清洁方法的研究及评价

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本文对GaAs光电阴极片UHV系统中原子级表面清洁方法做了研究,它们是:光加热法、直接加热法、离子轰击加退火法、热子加热法,表面清洁效果用装于UHV系统中间在线俄歇检测,表面质量用Aa/GaAuger峰高进行比较,指出两种用于第三代象增强器光电阴极的表面清洁方法:CS-离子轰击加退火法和热子背加热法。 In this paper, the atomic level surface cleaning methods in GaAs photocathode UHV system are studied, which are: light heating method, direct heating method, ion bombardment plus annealing method, hot sub-heating method, surface cleaning effect installed in the middle of UHV system online Auger test, surface quality with Aa / GaAuger peak height were compared, pointing out that the second generation of third-generation image intensifier photocathode surface cleaning methods: CS-ion bombardment annealing and hot sub-heating method.
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