脉冲源所镀DLC膜成份的分析

来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：y871655121

【摘要】

：

类金刚石薄膜(DLC膜)的成份(主要指sp3键和sp2键)是影响薄膜性能如薄膜的机械特性和电阻特性等的重要因素.因此,研究DLC膜的成份是非常必要的.本文介绍用X射线光电子能谱仪(X

【作者】

：

弥谦蔡长龙

【机构】

：

西安工业学院光电工程学院

【出处】

：

应用光学

【发表日期】

：

2003年5期

【关键词】

：

DLC膜类金刚石薄膜成份分析机械特性电阻特性 X射线光电子能谱仪脉冲真空电弧离子源 pulsed arc DLC films film composi

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类金刚石薄膜(DLC膜)的成份(主要指sp3键和sp2键)是影响薄膜性能如薄膜的机械特性和电阻特性等的重要因素.因此,研究DLC膜的成份是非常必要的.本文介绍用X射线光电子能谱仪(XPS)测量薄膜成份的方法.通过采用脉冲真空电弧离子源研究在各种工艺条件下镀制的DLC膜,发现了影响DLC膜成份的主要因素.

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