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在钇铝石榴石单晶基片上用射频溅射法制取了Y2O2S∶Eu红色发光薄膜.利用正交试验法,对溅射气体(Ar+H2S)中H2S浓度、退火气氛中SO2与H2的比例、退火温度和退火时间等工艺条件进行了优化试验.给出了实验结果并对其进行了讨论.
射频溅射法制作Y2O2S：Eu发光薄膜
【摘 要】
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在钇铝石榴石单晶基片上用射频溅射法制取了Y2O2S∶Eu红色发光薄膜.利用正交试验法,对溅射气体(Ar+H2S)中H2S浓度、退火气氛中SO2与H2的比例、退火温度和退火时间等工艺条件
【机 构】
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电子科技大学
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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2002年3期
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