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本文描述了瓣型激光快速直写亚微米光刻系统。由准分子激光采用飞点扫描曝光的方法在片子上作图了、制作了一种可编程相位调制的空间光学调制器，使用具有反射的，可变弹性的反射层的ＣＭＯＳ有源矩阵，研究成功并生产了５１２×４６４象素ＳＬＭ。业已表明，０．６μｍ最小特征尺寸的曝光装置，完成了由ＧＤＳＩＩＣＡＤ设计数据给出的整个光刻层曝光的全部功能要求：试验样机给出了质量很好的０．６μｍ的光刻图形。具有提高每小时