铁氰酸钴膜修饰微电极的研究及其应用

来源 :延安大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:lanyunbw2
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用电化学法在玻碳基体上制备出性能稳定的铁氰酸钴膜修饰微电极(CHCF/GC),该电极可在-1.0V-1.0V(vsSCE)之间进行连续多次的电位扫描。表征了该电极的电化学多种行为,研究了影响CHCF膜电极性能的多种因素和该电极对抗坏血酸(AA)测定的催化作用。 Electrochemical method was used to prepare a stable cobalt-substituted cobalt (II) carbonate film micro-electrode (CHCF / GC) on a glassy carbon substrate. The electrode could be operated continuously between -1.0V-1.0V (vsSCE) Potential scan. Various electrochemical behaviors of the electrode were characterized. Several factors influencing the performance of CHCF membrane electrode and the catalytic effect of the electrode on the determination of ascorbic acid (AA) were studied.
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