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在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术.纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中.同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制.纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印.介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域.