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利用Nb片和Ti片交替组配加工，经扩散反应制备了Ti含量从43WT％到57WT％之间的三种不同成份的NbTi超导线．测量了三种不同成份的临界电流密度Jc，讨论了在磁场下不同Ti含量对NbTi线临界电流密度Jc的影响，并对磁通钉扎机制进行了分析．通过扫描电镜(SEM)观察了Nb／Ti界面扩散形态及微结构，并运用多源标度分析法^[1]对不同成份的NbTi超导线进行了磁通钉扎力密度随磁场变化曲线的拟合．结果表明：随着含Ti量的增加。其临界电流密度在低场时很高，而在高场时的性能偏低，且下降迅速，而含Ti量低的超导