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合成了复合光催化剂PI／NiO／g-C3N4，并进行了扫描电镜（SEM）、x射线衍射（XRD）和傅里叶变换红外光谱（FT-IR）等表征。通过在紫外-可见光下降解甲基橙染料，研究了其光催化活性及反应机理。在染料浓度为20mg／L、催化剂用量为1g／L、光照时间15min时，15％PI／NiO／g-C3N4光催化剂对甲基橙染料的降解率达到97．6％。循环实验表明，经过3次循环后，降解率略有下降，说明复合光催化剂具有较高的光催化稳定性。自由基捕获实验表明，光催化降解过程中主要的活性物种为超氧阴离子自由基（