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Influence of the Plasma State on the Formation of Nano Crystalline SiC Films

来源 :Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition) | 被引量 : 0次 | 上传用户：kof00000

【摘 要】

：

The influence of the plasma state on the microstructure transformation from amorphous to nano-crystalline state is emphasized during the formation of the silico

【作 者】

：

廖波 王静静 陆姗姗 严辉 王波 

【机 构】

：

SchoolofInformationScienceandTechnology,KeyLaborataryofAdvancedFunctionalMaterials

【出 处】

：

Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition)

【发表日期】

：

2004年2期

【关键词】

：

纳米晶体 β-碳化硅薄膜 离子态 离子增强化学气相沉积 PECVD nanocrystalline  β-SiC  plasma enhanced chemic 

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The influence of the plasma state on the microstructure transformation from amorphous to nano-crystalline state is emphasized during the formation of the silicon carbide (SiC) films deposited by the plasma enhanced chemical vapor technique. The effect of

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