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Cu在Al—1.17%Cu合金表面的非平衡偏聚
Cu在Al—1.17%Cu合金表面的非平衡偏聚
来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:VIPYJS
【摘 要】
:
X光电子能谱表明,在Al-1.17%Cu合金氧化膜下的过饱和空位造成的空位坑中,有较大的Cu的偏聚。这种偏聚可用空位-Cu原子复合体扩散导致的非平衡偏聚理论来解释。
【作 者】
:
陈宁
余宗森
【机 构】
:
北京科技大学材料物理系
【出 处】
:
北京科技大学学报
【发表日期】
:
1994年4期
【关键词】
:
铝合金
表面
偏聚
铜
非平衡偏聚
Al alloy
surface
diffusion/segregation
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X光电子能谱表明,在Al-1.17%Cu合金氧化膜下的过饱和空位造成的空位坑中,有较大的Cu的偏聚。这种偏聚可用空位-Cu原子复合体扩散导致的非平衡偏聚理论来解释。
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