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因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点。以铜箔为基底的化学气相沉积（CVD）法是目前制备石墨烯的一种重要方法。文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在的优缺点;对石墨烯以铜基底化学气相沉积法的生长机理、最新研究进展及在多个领域的应用前景进行了分析。
铜箔在石墨烯制备中的应用研究进展
【摘 要】
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因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点。以铜箔为基底的化学气相沉积（CVD）法是目前制备石墨烯的一种重要方法。文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在
【机 构】
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山东金宝电子股份有限公司
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2016年9期
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