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本文于大豆鼓粒期（Ｒ５）晴天条件下，对“两垄一沟“栽培法冠层内叶面积指数，光照强度，干物质积累的垂直分布特点进行了研究。结果表明，该栽培法整个冠层叶面积指数大。从冠层内空间分布看，叶面积指数最大值出现的植株部位高度比７０ｃｍ大垄和５０ｃｍ窄行科播低，中部的光照强度高。但冠层内消光系数小。说明“两垄一沟”栽培法改善了冠层中的光照条件，提高了光能的截获率，积累了更多的干物质。