InGaAs/InP界面控制对InGaAs薄膜电学和光学性质的影响

来源 :红外与毫米波学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：aonHdt6b

【摘要】

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研究了全固态源分子束外延(MBE)生长InGaAs/InP异质结界面扩散对InGaAs外延薄膜电学和光学性质的影响.通过X射线衍射、变温霍尔测试和变温光致发光等方法对InGaAs薄膜样品进

【作者】

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郑文龙张亚光顾溢李宝宝陈泽中陈平平

【机构】

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上海理工大学材料科学与工程学院,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,中国科学院上海技术物理研究所传感技术联合国家重点实验室

【出处】

：

红外与毫米波学报

【发表日期】

：

2019年6期

【关键词】

：

INGAAS 界面控制迁移率光致发光 InGaAs/InP interface control mobility photoluminescence

【基金项目】

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国家自然科学基金(11634009),国家基础研究重点研究计划(2016YFB0402401,2016YFB0402404)

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研究了全固态源分子束外延(MBE)生长InGaAs/InP异质结界面扩散对InGaAs外延薄膜电学和光学性质的影响.通过X射线衍射、变温霍尔测试和变温光致发光等方法对InGaAs薄膜样品进行细致研究.发现在InGaAs/InP界面之间插入一层利用As4生长的InGaAs过渡层,能够显著改善上层InGaAs(利用As2生长)外延薄膜的电学性能,其低温迁移率显著提高.同时荧光峰反常蓝移动消失,光学性质有所改善.研究表明利用As4生长InGaAs过渡层,可显著降低As在InP中反常扩散,获得陡峭的InGaAs/

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