论文部分内容阅读
采用真空阴极电弧制备了TiAlN涂层，研究了N2气压和基体负偏压对涂层硬度的影响规律，分析了涂层的致硬机理，探讨了硬度对摩擦学性能的影响。结果表明，N2降低入射离子能量，降低增原子扩散，导致晶粒细化；基体负偏压增大入射离子能量，导致涂层致密化并依次出现（200）、（111）、（220）、（200）择优取向。TiAlN涂层的硬度受Ti、Al、N原子间键能，生长面择优取向及晶粒显微组织的影响，其中最薄弱因素起决定作用。摩擦学性能研究表明，高硬度TiAlN涂层易形成磨粒磨损，摩擦系数和磨损率高；低硬度TiAlN