n型多孔硅光致发光研究

来源 :光谱实验室 | 被引量 : 0次 | 上传用户：good2009good

【摘要】

：

对在无光照条件下,电化学阳极腐蚀方法制备的n型多孔硅进行了光致发光性能研究.在325nm的激发光照射下,多孔硅样品的发光峰在620nm处,其橙红色的发光肉眼可见,并随阳极电流密

【作者】

：

杨义军吴悦迪朱骏

【机构】

：

扬州大学物理科学与技术学院,江苏省扬州市四望亭路180号,225002

【出处】

：

光谱实验室

【发表日期】

：

2011年2期

【关键词】

：

n型多孔硅电化学腐蚀光致发光

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对在无光照条件下,电化学阳极腐蚀方法制备的n型多孔硅进行了光致发光性能研究.在325nm的激发光照射下,多孔硅样品的发光峰在620nm处,其橙红色的发光肉眼可见,并随阳极电流密度与腐蚀时间乘积的增加.先增强,后减弱.其发光峰位置与量子限制效应、表面态及缺陷态有关,发光强度与样品表面深度较浅孔洞所占的面积比成正比.

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