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对微棱镜逆反射材料进行了理论研究和实验制作.理论分析了微棱镜单元内光线的逆反射特性,并研究了全反射条件对入射孔径角的限制以及阵列结构的逆反射率.提出了一种新的工艺方法,用于制作大尺寸的微棱镜模版.该方法将小尺寸镍模版利用类似"盖章"的方法在较大尺寸的聚碳酸酯基底上依次压制并使其紧密排列,然后再利用电铸的方法生长出大尺寸镍工作模版.最终得到了尺寸为500 mm×100 mm的模版.使用其制作的样片的逆反射系数最高大于750 cd/(1x·m2).