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介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或低磷酸腐蚀的方法，制备用于测量Ｘ光成像系统像传递函数的Ａｌ静态成像靶的工艺，对两种腐蚀工艺进行了比较，确定了郭束刻蚀是获得所需图形的理想方法，经扫描电镜（ＳＥＭ）和台阶仪测量，Ａｌ静态成像靶的参数满足实验要求。
用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶
【摘 要】
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介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或低磷酸腐蚀的方法，制备用于测量Ｘ光成像系统像传递函数的Ａｌ静态成像靶的工艺，对两种腐蚀工艺进行了比较，确定了郭束刻蚀是获得所需图形的
【机 构】
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同济大学玻耳固体物理研究所
【出 处】
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同济大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2000年5期
【基金项目】
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国家863惯性约束聚变领域资助项目!( 863-4 1 6-3-9)
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