【摘 要】
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为了克服传统的电化学沉积铋使镀液不稳定,镀层受析氢影响的缺点,研究了一种新的以二甲亚砜为溶剂的化学镀铋体系,提出了两种可以沉积出银白光亮致密铋镀层的配方.探讨了不同
【机 构】
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暨南大学化学系,中山大学化学与化学工程学院
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为了克服传统的电化学沉积铋使镀液不稳定,镀层受析氢影响的缺点,研究了一种新的以二甲亚砜为溶剂的化学镀铋体系,提出了两种可以沉积出银白光亮致密铋镀层的配方.探讨了不同基体上化学沉积铋的情况,结果以在铁片和铜片上沉积效果好,可作为代铬镀层应用.初步用电化学方法探讨了化学镀的机理,即先由铜提供电子,而后铋自催化使镀层增厚.用EDAX分析镀层确认只含铋,用XRD对镀层进行表征,证明了镀层中的铋以金属晶体存在,平均粒径为38 nm.
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