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将无磨料抛光与低温抛光结合起来,首次提出一种可获得原子级超光滑表面的新方法--无磨料低温抛光.这种新工艺可使光学材料获得Ra<1 nm的原子级超光滑表面,通过大量的试验,系统研究了抛光盘水质、抛光前修盘时间、抛光压力和偏心等对已加工表面粗糙度的影响规律.结果表明,这种抛光工艺能获得原子级的超光滑表面.