【摘 要】
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采用反应离子刻蚀技术在Si（100）表面加工微米级圆柱阵列,采用自组装技术分别制备了3种硅烷自组装分子膜.结果表明,采用反应离子刻蚀构建出的4种微米级圆柱阵列结构规整,其直径
【机 构】
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大连海事大学机械工程系,大连理工大学机械工程学院
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采用反应离子刻蚀技术在Si（100）表面加工微米级圆柱阵列,采用自组装技术分别制备了3种硅烷自组装分子膜.结果表明,采用反应离子刻蚀构建出的4种微米级圆柱阵列结构规整,其直径为5μm,高度为10μm,间距为15～45μm.沉积自组装分子膜后,试样表面的水接触角显著增大,其中沉积1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷（FDTS）自组装分子膜接触角最大,1H,1H,2H,2H-全氟辛烷基三氯硅烷（FOTS）次之,三氯十八硅烷（OTS）最小.测得的接触角大于150°时接近Cassie方程计算的接触角
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