【摘 要】
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采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理,进一步提高其场致发射性能.采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜,并对薄膜进行 AFM 分析,通过场致发射测试结
【机 构】
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福建工程学院信息学院,福州大学光电显示技术研究所
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采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理,进一步提高其场致发射性能.采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜,并对薄膜进行 AFM 分析,通过场致发射测试结果表明,经过脉冲电压法处理后的平行栅双层膜阴极的发射性能,如亮度、均匀度等有了很大的提高,阳压为3000 V,栅压为190 V,其腔体亮度可达462 cd/m2.平行栅双层膜阴极的脉冲电压处理可以有效改善阴极的场发射性能,为改善 SED 阴极结构及材料提供了一条有效的实验方法.
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