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药厂塔类设备有机垢化学清洗新工艺
药厂塔类设备有机垢化学清洗新工艺
来源 :河北化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tianchaoguoshi
【摘 要】
:
讨论了塔类设备有机垢的生成原因,简要介绍了清洗剂选择条件、化学清洗工艺流程及方案的确定和清洗后的效果。
【作 者】
:
陈仲祥
高慧琴
【机 构】
:
河北科技大学机械电子工程学院
【出 处】
:
河北化工
【发表日期】
:
2002年2期
【关键词】
:
制药设备
清洗剂
有机垢
塔类设备
化学清洗
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讨论了塔类设备有机垢的生成原因,简要介绍了清洗剂选择条件、化学清洗工艺流程及方案的确定和清洗后的效果。
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