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高纯三氟化硼是半导体离子注入用的重要掺杂离子源,在电子工业中有着广泛的应用。介绍了三氟化硼常用的制备方法及其优缺点,列举了三氟化硼的纯化方法。在实际生产过程中,企业可根据自身的情况选择合理的生产路线,结合三氟化硼粗品的杂质种类,选择合适的纯化方法,得到高纯度的三氟化硼产品。
三氟化硼的制备及纯化技术研究进展
【摘 要】
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高纯三氟化硼是半导体离子注入用的重要掺杂离子源,在电子工业中有着广泛的应用。介绍了三氟化硼常用的制备方法及其优缺点,列举了三氟化硼的纯化方法。在实际生产过程中,企
【机 构】
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浙江省化工研究院有限公司
【出 处】
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有机氟工业
【发表日期】
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2020年2期
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