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等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响
等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响
来源 :强激光与粒子束 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xinshou2010
【摘 要】
:
在一种增强型多弧镀膜装置上,实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺。通过扫描电镜对膜层结构的分析,氮化钛硬质膜与基体之间具有相适应的力学性能,并在膜基界
【作 者】
:
肖志刚
林东生
等
【机 构】
:
西北核技术研究所
【出 处】
:
强激光与粒子束
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
等离子体发生器
氮化钛膜
膜基结合力
材料表面处理
硬质膜
等离子体渗氮
工艺
plasma generator
nitriding
TiN film
【基金项目】
:
西北核技术研究所高新技术资助课题
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在一种增强型多弧镀膜装置上,实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺。通过扫描电镜对膜层结构的分析,氮化钛硬质膜与基体之间具有相适应的力学性能,并在膜基界面处形成氮化物的混合层。通过对膜基结合力的定量测试,证实该工艺大幅度提高了膜基结合力。
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