用磁控溅射法制备的Ag-MgF2的复合薄膜的研究

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【摘要】

：

采用RF磁控溅射方法制备了Ag-MgF2复合薄膜。通过XRD测量，发现当退火温度在300-500℃时，Ag以晶态形式镶嵌在非晶态介质中；当退火温度低于300℃时候，Ag以非晶态形式存在。在分层镀

【作者】

：

赵亚丽许小亮明海

【机构】

：

中国科学技术大学物理系

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2007年3期

【关键词】

：

Ag-MgF2复合薄膜磁控溅射吸收谱纳米颗粒 Ag-MgF2 composite films magnetron sputter absorption m

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采用RF磁控溅射方法制备了Ag-MgF2复合薄膜。通过XRD测量，发现当退火温度在300-500℃时，Ag以晶态形式镶嵌在非晶态介质中；当退火温度低于300℃时候，Ag以非晶态形式存在。在分层镀Ag和MgF2薄膜后，经过热处理使Ag颗粒扩散在MgF2介质中，通过AFM观察，对复合薄膜形貌进行了分析：如果先镀MgF2薄膜，再镀Ag薄膜，发现Ag颗粒主要分布在薄膜的表面，并且富集形成较大的颗粒，表现出块体Ag的吸收特性。而先镀Ag薄膜，然后再镀MgF2薄膜，经过热处理，可以形成Ag颗粒均匀镶嵌在介质中形成的复

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