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美国哈佛大学技术开发局（OTD）和美国SiOnyx于宣布，哈佛大学将向SiOnyx提供名为“黑硅（Si）”的特殊硅材料的专利授权。SiOnyx将获得哈佛大学黑硅相关专利的独占使用权，争取实现商用化。
美国SiOnyx获哈佛大学黑硅专利的独家使用权
【摘 要】
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美国哈佛大学技术开发局（OTD）和美国SiOnyx于宣布，哈佛大学将向SiOnyx提供名为“黑硅（Si）”的特殊硅材料的专利授权。SiOnyx将获得哈佛大学黑硅相关专利的独占使用权，争取实现商用
【出 处】
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新材料产业
【发表日期】
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2008年6期
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