【摘 要】
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分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),反射膜的反射率变化不明显,设计的膜系结构对
【机 构】
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华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心 上海2002
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分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),反射膜的反射率变化不明显,设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容。在此基础上制备了193nm反射膜,结果表明退火前光学损耗相对较大,实验结果与理论计算结果存在一定差距,并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小,而吸收损耗占光学损耗的主要部分,起主导作用。退火后光学损耗明显下降,实验结果与理论计算结果更为接近,193nm反射膜的反射率达98%以上。散射损耗增加至接近吸收损耗的水平,不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例。说明当吸收损耗下降到一定程度时,散射损耗所起的作用也是不可忽视的。
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