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用光电化学方法研究了铜电极在含缓蚀剂ＢＴＡ和ＰＴＤ的硼砂和硼砂－硼酸缓冲溶液中的光电化学行为，研究了不同浓度缓蚀剂对铜电极表面Ｃｕ２Ｏ完全还原为Ｃｕ的电位φＶ的影响，试验结果表明φＶ表征了缓蚀剂所形成的膜与Ｃｕ２Ｏ怪之间的结合力，缓蚀作用越强则φＶ越负。
BTA和PTD对铜的缓蚀作用的光电响应研究
【摘 要】
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用光电化学方法研究了铜电极在含缓蚀剂ＢＴＡ和ＰＴＤ的硼砂和硼砂－硼酸缓冲溶液中的光电化学行为，研究了不同浓度缓蚀剂对铜电极表面Ｃｕ２Ｏ完全还原为Ｃｕ的电位φＶ的影响，试验结果表明φＶ表征了缓蚀剂
【机 构】
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上海电力学院电化学研究室
【出 处】
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中国腐蚀与防护学报
【发表日期】
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1998年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目,,上海市高校青年科学基金项目
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