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石英玻璃是紫外光刻、激光核技术等精密光学系统的关键光学元件。石英玻璃在加工过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题，化学抛光能有效消除石英玻璃的亚表面损伤。介绍了石英玻璃片的化学抛光工艺原理和过程，利用正交实验法优化了石英玻璃化学抛光工艺参数，分析了化学抛光过程中抛光液成分、抛光液温度和抛光时间对石英玻璃片表面粗糙度的影响。实验结果表明，采用氟化氢铵、水和丙三醇配置的化学抛光液，在最优化的工艺参数时，石英玻璃片经过化学抛光，表面粗糙度可降到100 nm左右，可见光透过率最高可达到89%。为石英玻璃光学零件的化学抛光工艺提供了理论依据和技术支持。