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开发了一种具有黑层的高对比度 TFEL显示器。黑层结构的制备工艺与标准的有介质层器件的工艺相同,采用了反应磁控溅射技术。这种结构具有良好的稳定性。
高对比度暗场TFEL显示器
【摘 要】
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开发了一种具有黑层的高对比度 TFEL显示器。黑层结构的制备工艺与标准的有介质层器件的工艺相同,采用了反应磁控溅射技术。这种结构具有良好的稳定性。
【出 处】
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发光快报
【发表日期】
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1991年2期
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