【摘 要】
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以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体,六水合硝酸钴（Co（NO3）3·6H2O）为钴源,十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为模板剂,通过溶胶-凝胶-模板技术制备了不同条件下的微孔钴掺杂二氧化硅膜。研究了酸
【机 构】
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沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,
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以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体,六水合硝酸钴（Co（NO3）3·6H2O）为钴源,十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为模板剂,通过溶胶-凝胶-模板技术制备了不同条件下的微孔钴掺杂二氧化硅膜。研究了酸量、水量、钴掺杂量、焙烧温度对溶胶胶粒粒径及膜材料孔结构的影响。结果表明:酸和水添加量以及焙烧温度相对于钴掺杂量是主要的影响因素。溶胶胶粒粒径随着酸量的增多先减小后增大,在HNO3/TEOS摩尔比为0.055时溶胶胶粒粒径达到最小值;随着水量的增大而粒径增大,且粒径分布变宽,在H2O/TEOS摩尔比为10时最明显;随着酸量和焙烧温度的增大,膜材料的比表面积和微孔孔容先增大后降低,在HNO3/TEOS摩尔比为0.085时,450℃焙烧的膜材料的比表面积和微孔孔容达到最大值。
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