【摘 要】
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基于标量衍射理论,考虑焦距长度与微透镜尺寸的关系,提出了一种新的制作二元光学衍射微透镜的方法——部分刻蚀法.利用这种方法制作了256×256硅微透镜阵列,并将其与PtSi红
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基于标量衍射理论,考虑焦距长度与微透镜尺寸的关系,提出了一种新的制作二元光学衍射微透镜的方法——部分刻蚀法.利用这种方法制作了256×256硅微透镜阵列,并将其与PtSi红外焦平面阵列单片集成在一起,使红外焦平面阵列的灵敏度R和比探测率D*都提高了1.7倍.
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