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二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究
二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究
来源 :科教文汇 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lhk4444
【摘 要】
:
本文采用电化学方法探讨了二巯基噻二唑(DMTD)自组装膜在3%NaCI溶液中对铜的缓蚀作用。实验表明二巯基噻二唑已经成功地组装到铜的表面,并具有良好的缓蚀作用。当二巯基噻二唑的
【作 者】
:
童耀斌
罗红群
李念兵
【机 构】
:
西南大学化学化工学院
【出 处】
:
科教文汇
【发表日期】
:
2008年13期
【关键词】
:
二巯基噻二唑
铜电极
缓蚀
自组装膜
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本文采用电化学方法探讨了二巯基噻二唑(DMTD)自组装膜在3%NaCI溶液中对铜的缓蚀作用。实验表明二巯基噻二唑已经成功地组装到铜的表面,并具有良好的缓蚀作用。当二巯基噻二唑的浓度浓度均为1×10-2mol/L。组装时间为25h时的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好。
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