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2006年9月4日-Micronic Laser Systems AB邀请中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新图形描绘技术，并详细介绍Micronic完善的客户支持。
Micronic针对中国的光掩膜行业举办技术研讨会 介绍图形描绘的最新技术与完善支持服务
【摘 要】
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2006年9月4日-Micronic Laser Systems AB邀请中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新图形描绘技术，并详细介绍Micronic完善的客户支持。
【出 处】
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现代显示
【发表日期】
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2006年10期
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