液相电子轰击质谱法及其组合离子源

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【公开日】  1 987.0 4.1 5  【公开号】  85 1 0 72 73  【主分类号】  G0 1 N2 3 /2 2  【申请日】  1 985 .1 0 .0 7  【申请号】  85 1 0 72 73 【分类号】 G0 1 N2 3 /2 2 ;H0 1 J49/1 4  【申请人】 中国科学院科学仪器厂  【地址】 北京市海淀区中 [Publication Date] 1 987.0 4.1 5 【Publication Number】 85 1 0 72 73 【Subject Classification】 G0 1 N2 3/2 2 【Application Date】 1 985 .1 0 .0 7 【Application Number】 85 1 0 72 73 【CLC】 G0 1 N2 3/2 2; H0 1 J49 / 1 4 【Applicant】 Scientific Instrument Factory, Chinese Academy of Sciences 【Location】 Haidian District, Beijing
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