薄膜敏感元件的现状

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随着信息技术的发展,要求敏感元件向小型化、集成化和多功能方向发展,而采用薄膜技术制造的薄膜敏感元件,由于具有许多特点而日益受到人们重视。薄膜敏感元件的核心是沉积在基体表面上的一层功能薄膜,厚度在零点几纳米到几微米。 薄膜敏感元件制造上常用的薄膜制备方法分为物理汽相沉积(PVD)工艺和化学汽相 With the development of information technology, sensitive components are required to be miniaturized, integrated and multi-functional. Thin-film sensors manufactured by thin-film technology are gaining more and more attention because of their many characteristics. The core of the membrane sensor is a functional film deposited on the surface of the substrate at a thickness of a few nanometers to a few microns. Thin film sensing device commonly used in the manufacture of thin-film preparation methods are divided into physical vapor deposition (PVD) process and chemical vapor phase
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