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基于曝光和显影理论对shipley光刻胶显影速度随曝光量的变化进行研究,得到其数学表达式.通过改变激光波长以及曝光量,显影液的温度、浓度、显影时间等,经台阶实验得到其实验数据.由拟合实验数据得到显影速度随曝光量变化的曲线,并通过对曲线的分析比较认识光刻胶的性能,以期为制作高质量、符合要求的光栅掩模工艺提供有价值的参数.