【摘 要】
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本文将KMnO4在酸性个质中氧化As(Ⅲ)和高锰酸钾——甲氧苄啶——硫代硫酸钠化学发光反应偶合一起,建立了一种间接测定痕量砷含量的新方法。研究了各种反应物浓度、酸度、干扰离
【机 构】
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河南农业大学基础科学学院,广州贝氏药业有限公司
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本文将KMnO4在酸性个质中氧化As(Ⅲ)和高锰酸钾——甲氧苄啶——硫代硫酸钠化学发光反应偶合一起,建立了一种间接测定痕量砷含量的新方法。研究了各种反应物浓度、酸度、干扰离子等因素对测定结果的影响。As(Ⅲ)浓度在1.0×10^-7~1.0×10^-5g/mL范围内与化学发光强度有较好的线性关系。对5.0×10^-6g/mL的As(Ⅲ)进行了11次平行测定,相对标准偏差为2.8%,方法的检出限为2.2×10^-9g/mL。
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