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研究溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响.结果表明:当其他参数不变的情况下,薄膜表面粗糙度(RMS)随电流的增大先变大后变小.在电流达到3A时,粗糙度达到最小值.
直流反应磁控溅射TiN薄膜表面形貌研究
【摘 要】
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研究溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响.结果表明:当其他参数不变的情况下,薄膜表面粗糙度(RMS)随电流的增大先变大后变小.在电流达到3A时,粗糙度达到最小值.
【机 构】
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齐齐哈尔工程学院机电系,黑龙江齐齐哈尔,151006西华大学材料科学与工程学院,四川成都,610039;
【出 处】
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赤子
【发表日期】
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2004年期
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