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介绍了半导体加工领域蓬勃发展的ＣＭＰ技术。重点叙述了ＣＭＰ技术的发展历程、采用的设备和消耗品，技术现状，新应用以及该技术主要使用的ＳｉＯ２ＣＭＰ浆料的制备技术。
化学机械抛光（CMP）技术
【摘 要】
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介绍了半导体加工领域蓬勃发展的ＣＭＰ技术。重点叙述了ＣＭＰ技术的发展历程、采用的设备和消耗品，技术现状，新应用以及该技术主要使用的ＳｉＯ２ＣＭＰ浆料的制备技术。
【机 构】
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华东理工大学技术化学物理研究所
【出 处】
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上海化工
【发表日期】
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1999年19期
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