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本文采用LRS,XRD,UV-DRS,TPR考查了γ-Al2O3上TiO2的分散容量,分散态Ti4+离子的配位环境;NiO在经TiO2改性后的γ-Al2O3载体上的分散容量。结果表明:(1)TiO2在γ-Al2O3表面的分散容量约为0.62fmmol/100m2γ-Al2O3,当TiO2含量低于该分散容量时Ti4+在γ-A12O3载体表面以嵌入形式呈离子态分布;而含量高于分散容量时还有结晶态的TiO2出现。(2)NiO在TiO2/γ-Al2O3载体表面的分散容量约为1.1mmol/100m2γ-Al2O3