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RF磁控溅射技术制备TiO2-xNx薄膜及组成和结构研究

来源 :东北师大学报（自然科学版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：wangcwfq3

【摘 要】

：

利用RF磁控溅射技术(Ar,N2和O2混合气体,Ti金属靶)制备TiO 2-xNx薄膜.用XRD和XPS对其结构和组成进行表征,结果表明:在实验系统中的N2含量在13%～17%之间,可以得到高质量的TiO 2

【作 者】

：

景士伟 刘益春 梁宇 马健钢 吕有明 申德振 张吉英 

【机 构】

：

东北师范大学先进光电功能材料研究中心,中国科学院激发态重点实验室

【出 处】

：

东北师大学报（自然科学版）

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

TiO2-xNx XRD XPS 吸收光谱 可见光 

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利用RF磁控溅射技术(Ar,N2和O2混合气体,Ti金属靶)制备TiO 2-xNx薄膜.用XRD和XPS对其结构和组成进行表征,结果表明:在实验系统中的N2含量在13%～17%之间,可以得到高质量的TiO 2-xNx薄膜,β-N为 TiO 2-xNx薄膜的主要成分;不同含N量的TiO 2-xNx薄膜的结构和组成的光学催化活性不同.

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