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基于光学薄膜反射椭偏法的测量原理，对光学薄膜散射椭偏特性进行了研究。给出了光学薄膜散射逆问题的解决方法，并对不同脉冲频率下采用脉冲真空电弧离子镀技术沉积的类金刚石薄膜的散射特性进行了研究。分析了光学薄膜界面的相关特性以及膜层中局部缺陷对散射光椭偏特性的影响。结果表明：随着脉冲频率的增加，所沉积的类金刚石薄膜的相关性变差，且薄膜中的局部缺陷引起的体散射越明显。