【摘 要】
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利用二次离子质谱法(SIMS)测量和分析了金刚石的表面杂质,为获得表面杂质的深度分布,采用了离子剥蚀法,用15keV的Ar~+总共剥蚀了6400s。以N、Na、Mg和Si四种杂质作为研究对象
【机 构】
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中国科学院国际材料物理中心,天津广播电视大学
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利用二次离子质谱法(SIMS)测量和分析了金刚石的表面杂质,为获得表面杂质的深度分布,采用了离子剥蚀法,用15keV的Ar~+总共剥蚀了6400s。以N、Na、Mg和Si四种杂质作为研究对象。结果表明,各种杂质的浓度最大值均位于最外表面的一薄层内,它相当于剥蚀时间不足6.5min。对于某一给定的杂质,在不同样品的最外表面上的浓度可以相差很悬殊。但当Ar~+剥蚀30min以后,不同样品中的浓度相差不很大,且同一样品中,各种杂质的浓度随剥蚀时间的增大(即随深度的增加)变化不大。
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