【摘 要】
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主要介绍CJ-500型磁控溅射多弧两用镀膜机的技术特点以及技术参数和已完成的工艺情况。通过磁系统的更换,成功地实现了在一台机器上的磁控溅射与多弧两种镀膜方法的改变,通过
【机 构】
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核工业西南物理研究院 乐山 614007;
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主要介绍CJ-500型磁控溅射多弧两用镀膜机的技术特点以及技术参数和已完成的工艺情况。通过磁系统的更换,成功地实现了在一台机器上的磁控溅射与多弧两种镀膜方法的改变,通过电源的换接,为镀膜方法的改变提供了方便,已成功地镀出了合格单质钛膜和氮化钛膜,色泽艳丽,附着力好,膜层均匀。其沉积率均大于50 nm/min,设备已通过调试验收正式交付用户使用。该镀膜机除了作为氮化钛和单质钛的沉积设备外,还可用于等离子体刻蚀,以及核工业新材料的开发。
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