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从分子设计出发，合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料：聚（４－甲基苯乙烯－异戊二烯－苯乙烯－异戊二烯－４－甲基苯乙烯）三元五嵌段共聚物，并用ＦＴＩＲ，＾１Ｈ－ＮＭＲ，ＧＰＣ，ＤＳＣ，ＴＥＭ等对共聚产物进行了表征，证实了ＭｓＩＳＩＭｓ是制备镶嵌荷电膜的理想膜材料。
一种制备镶嵌荷电膜的新材料MsISIMs五嵌段共聚物的合成与表征
【摘 要】
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从分子设计出发，合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料：聚（４－甲基苯乙烯－异戊二烯－苯乙烯－异戊二烯－４－甲基苯乙烯）三元五嵌段共聚物，并用ＦＴＩＲ，＾１Ｈ－ＮＭＲ，ＧＰＣ，ＤＳＣ，ＴＥＭ等对共聚产物进行了表征，证实了ＭｓＩＳＩＭｓ是制备镶嵌荷电膜的
【机 构】
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北京化工大学高分子系
【出 处】
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膜科学与技术
【发表日期】
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1997年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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