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本研究从RhCl_3·3H_2O和VOCl_2·5H_2O及SiO_2出发制备了对C_2-含氧化物的生成具有良好活性和选择性的Rh/V/SiO_2催化剂。当V/Rh=0.5～1(原子比),还原温度在250～300℃时催化剂的活性和选择性都较佳。适当地提高反应的压力、温度和空速,可在选择性基本不变的条件下,使C_2含氧化物的生成速率大大提高。在6大气压、230℃和24000毫升/时·克催化剂下可获得C_2-含氧化物生成选择性达80％,生成速率达0.9克/时·克催化剂C