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不同的工艺条件会对薄膜的生长产生影响.使用等离子体增强化学气相淀积方法,对PECVD生长氮化硅钝化膜的工艺条件进行了实验研究,阐述了几种工艺参数对钝化膜生长的影响,获得了生长氮化硅钝化膜的较佳工艺条件,制作出了高质量的氮化硅钝化膜.
PECVD技术生长氮化硅钝化膜的条件控制
【摘 要】
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不同的工艺条件会对薄膜的生长产生影响.使用等离子体增强化学气相淀积方法,对PECVD生长氮化硅钝化膜的工艺条件进行了实验研究,阐述了几种工艺参数对钝化膜生长的影响,获得
【机 构】
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丹东安顺微电子有限公司辽宁丹东118002
【出 处】
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南阳理工学院学报
【发表日期】
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2013年3期
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